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长鑫与长江存储提前布局ASML光刻机以应对出口限制



为了应对日益严格的半导体设备出口管制,中国两家主要的存储芯片制造企业——长鑫存储和长江存储,近期被报道已开展了一项大规模的战略储备。最新的行业调查显示,这两家公司已提前采购并储备了一定数量的阿斯麦(ASML)深紫外(DUV)光刻机及其关键部件,现有储备可以满足未来三年的生产和日常晶圆制造需求。近年来,随着欧美国家对先进半导体制造设备的出口限制逐渐扩展至中高端DUV光刻系统,中国的半导体供应链面临不断增加的供应不确定性。在此背景下,作为在DRAM和3D NAND领域的领先企业,长鑫和长江存储选择在新一轮出口禁令和许可审查生效前,迅速投入资金,从阿斯麦等全球供应商处购买光刻设备。 市场研究表明,过去一年多,中国大陆已成为阿斯麦重要的营收市场,其在华出货主要集中于各类DUV光刻系统。分析人士指出,两家公司储备的设备主要包括NXT:1980系列及其他型号的浸没式DUV光刻机。虽然DUV的物理波长限制使其无法像EUV那样直接曝光超微观晶体管,但通过多重曝光和多重图案化等先进的制造工艺,两家公司依然能利用现有DUV设备有效推进下一代高密度DRAM和超高层数的3D NAND芯片量产和更新换代。 除了完整的光刻系统,两家公司还大量储备了设备的易损耗配件及维护材料。据悉,它们不仅囤积了整机,还建立了庞大的关键零部件库,以应对未来售后服务受限或零部件短缺的风险。这项为期三年的设备储备,为国内主流存储芯片产能的平稳提升提供了保障,同时也为本土半导体设备制造商研发与测试自主光刻机争取了宝贵的时间。 专家认为,尽管大规模的设备储备将占用大量现金流,并可能面临设备维护和长期折旧等挑战,但在当前复杂的国际政治环境和产业脱钩压力下,这种储备策略被视为中国存储芯片行业稳固产能并对抗外部封锁风险的务实选择。随着这些设备的陆续安装并投入生产,中国在成熟存储技术领域的全球市场份额预计在未来几年将持续稳步增长。

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